핸드헬드 레이저 시스템의 세정 기능
레이저 방사선을 사용하여 표면을 세정하는 방법 및 시스템이 제공된다. 하나의 예에서, 레이저 방사선을 사용하여 표면을 세정하는 시스템은 레이저 방사선을 생성하도록 구성된 레이저 소스로서, 레이저 소스는 세정 모드에서 레이저 방사선을 방출하도록 구성되며, 세정 모드는 100% 미만의 듀티 사이클, 적어도 10 킬로헤르츠(kHz)보다 큰 펄스 반복 주파수, 및 1 마이크로초(㎲)부터 10 (밀리초)ms까지의 범위의 FWHM 펄스 지속 기간을 갖는 변조된 연속파(CW) 모드인 것을 특징으로 하는, 레이저 소스, 레이저 방사선을 표면으로...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 레이저 방사선을 사용하여 표면을 세정하는 방법 및 시스템이 제공된다. 하나의 예에서, 레이저 방사선을 사용하여 표면을 세정하는 시스템은 레이저 방사선을 생성하도록 구성된 레이저 소스로서, 레이저 소스는 세정 모드에서 레이저 방사선을 방출하도록 구성되며, 세정 모드는 100% 미만의 듀티 사이클, 적어도 10 킬로헤르츠(kHz)보다 큰 펄스 반복 주파수, 및 1 마이크로초(㎲)부터 10 (밀리초)ms까지의 범위의 FWHM 펄스 지속 기간을 갖는 변조된 연속파(CW) 모드인 것을 특징으로 하는, 레이저 소스, 레이저 방사선을 표면으로 지향시키는 핸드헬드 장치로서 구성된 하우징, 및 핸드헬드 장치를 레이저 소스에 결합하는 광섬유를 포함한다.
A method and system for cleaning a surface using laser radiation is provided. In one example, a system for cleaning a surface using laser radiation includes a laser source configured to generate laser radiation, the laser source configured to emit laser radiation in a cleaning mode, the cleaning mode characterized as a modulated continuous wave (CW) mode having a duty cycle less than 110%, pulse-repetition frequency greater of at least 10 kilohertz (kHz), and a FWHM pulse duration in a range of 1 microsecond (μs) to 10 (milliseconds) ms inclusive, a housing configured as a handheld apparatus that directs the later radiation to the surface, and an optical fiber coupling the handheld apparatus to the laser source. |
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