Showerhead assembly and Substrate processing apparatus

본 발명은 샤워헤드 어셈블리 및 기판처리장치에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 기판을 가열할 수 있으며 비교적 고온 공정에서 홀 가공이 자유로운 세라믹 히터를 구비한 샤워헤드 어셈블리 및 기판처리장치에 대한 것이다. The present disclosure relates to a showerhead assembly and a substrate processing apparatus, and more particularly to a showerhead assembly and a substrate processing apparatus i...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	YUN BYEONG HO, KANG MIN WOOK, JANG KYUNG HO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 샤워헤드 어셈블리 및 기판처리장치에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 기판을 가열할 수 있으며 비교적 고온 공정에서 홀 가공이 자유로운 세라믹 히터를 구비한 샤워헤드 어셈블리 및 기판처리장치에 대한 것이다. The present disclosure relates to a showerhead assembly and a substrate processing apparatus, and more particularly to a showerhead assembly and a substrate processing apparatus including a ceramic heater that heats a substrate and by which hole processing is freely performed in a relatively high temperature process.