A METROLOGY APPARATUS WITH RADIATION SOURCE HAVING MULTIPLE BROADBAND OUTPUTS

리소그래피 제조 프로세스에서 사용하기 위한 계측 장치가 개시된다. 계측 장치는 복수의 광학 경로로 분할되는 출력을 갖는 구동 레이저를 포함하는 방사선 소스를 포함하되, 각각의 광학 경로는 개개의 광대역 광 생성기를 포함한다. 계측 장치는 구조체를 조명하기 위한 조명 광학계, 구조체에 의해 산란된 산란 방사선을 검출하기 위한 적어도 하나의 검출 시스템, 및 산란 방사선으로부터 구조체의 관심 파라미터를 결정하기 위한 프로세서를 더 포함한다. Disclosed is a metrology apparatus for use in a litho...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SCHOLTES VAN EIJK PAUL WILLIAM, HUGERS RONALD FRANCISCUS HERMAN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	리소그래피 제조 프로세스에서 사용하기 위한 계측 장치가 개시된다. 계측 장치는 복수의 광학 경로로 분할되는 출력을 갖는 구동 레이저를 포함하는 방사선 소스를 포함하되, 각각의 광학 경로는 개개의 광대역 광 생성기를 포함한다. 계측 장치는 구조체를 조명하기 위한 조명 광학계, 구조체에 의해 산란된 산란 방사선을 검출하기 위한 적어도 하나의 검출 시스템, 및 산란 방사선으로부터 구조체의 관심 파라미터를 결정하기 위한 프로세서를 더 포함한다. Disclosed is a metrology apparatus for use in a lithographic manufacturing process. The metrology apparatus comprises a radiation source comprising a drive laser having an output split into a plurality of optical paths, each comprising a respective broadband light generator. The metrology apparatus further comprises illumination optics for illuminating a structure, at least one detection system for detecting scattered radiation, having been scattered by the structure and a processor for determining a parameter of interest of the structure from the scattered radiation.