COMMON-GATE AMPLIFIER CIRCUIT
본 개시는 반도체 구조체들에 관한 것이고, 더 상세하게는, 공통-게이트 증폭기 회로 및 동작 방법들에 관한 것이다. 그 구조체는, 기판에서의 적어도 하나의 웰, 트랜지스터 회로의 게이트에 연결되는 제1 금속 층, 제1 금속 층 위에 중첩되어 제1 커패시터를 형성하는 제2 금속 층, 및 제1 금속 층에 비아들로 연결되고 제2 금속 층과 중첩되어 제2 커패시터를 형성하는 제3 금속 층을 포함한다. 적어도 하나의 커패시턴스는 적어도 하나의 웰과 기판 사이 그리고 제1 금속 층, 제2 금속 층, 및 제3 금속 층의 중첩된 금속 층들 사이의...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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creator | TESTA PAOLO VALERIO SYED SHAFIULLAH |
description | 본 개시는 반도체 구조체들에 관한 것이고, 더 상세하게는, 공통-게이트 증폭기 회로 및 동작 방법들에 관한 것이다. 그 구조체는, 기판에서의 적어도 하나의 웰, 트랜지스터 회로의 게이트에 연결되는 제1 금속 층, 제1 금속 층 위에 중첩되어 제1 커패시터를 형성하는 제2 금속 층, 및 제1 금속 층에 비아들로 연결되고 제2 금속 층과 중첩되어 제2 커패시터를 형성하는 제3 금속 층을 포함한다. 적어도 하나의 커패시턴스는 적어도 하나의 웰과 기판 사이 그리고 제1 금속 층, 제2 금속 층, 및 제3 금속 층의 중첩된 금속 층들 사이의 접합부 중 적어도 하나에 있다.
The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to a common-gate amplifier circuit and methods of operation. The structure includes at least one well in a substrate, a first metal layer connected to a gate of a transistor circuit, a second metal layer overlapped over the first metal layer to form a capacitor (C3, C4), and a third metal layer connected with vias to the first metal layer and overlapped with the second metal layer to form a second capacitor (C1, C2). At least one capacitance (C5, C6, C7, C8) in at least one of a junction between the at least one well and the substrate and between overlapped metal layers of the first metal layer, the second metal layer, and the third metal layer. |
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The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to a common-gate amplifier circuit and methods of operation. The structure includes at least one well in a substrate, a first metal layer connected to a gate of a transistor circuit, a second metal layer overlapped over the first metal layer to form a capacitor (C3, C4), and a third metal layer connected with vias to the first metal layer and overlapped with the second metal layer to form a second capacitor (C1, C2). At least one capacitance (C5, C6, C7, C8) in at least one of a junction between the at least one well and the substrate and between overlapped metal layers of the first metal layer, the second metal layer, and the third metal layer.</description><language>eng ; kor</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240123&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240009861A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25544,76295</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240123&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240009861A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>TESTA PAOLO VALERIO</creatorcontrib><creatorcontrib>SYED SHAFIULLAH</creatorcontrib><title>COMMON-GATE AMPLIFIER CIRCUIT</title><description>본 개시는 반도체 구조체들에 관한 것이고, 더 상세하게는, 공통-게이트 증폭기 회로 및 동작 방법들에 관한 것이다. 그 구조체는, 기판에서의 적어도 하나의 웰, 트랜지스터 회로의 게이트에 연결되는 제1 금속 층, 제1 금속 층 위에 중첩되어 제1 커패시터를 형성하는 제2 금속 층, 및 제1 금속 층에 비아들로 연결되고 제2 금속 층과 중첩되어 제2 커패시터를 형성하는 제3 금속 층을 포함한다. 적어도 하나의 커패시턴스는 적어도 하나의 웰과 기판 사이 그리고 제1 금속 층, 제2 금속 층, 및 제3 금속 층의 중첩된 금속 층들 사이의 접합부 중 적어도 하나에 있다.
The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to a common-gate amplifier circuit and methods of operation. The structure includes at least one well in a substrate, a first metal layer connected to a gate of a transistor circuit, a second metal layer overlapped over the first metal layer to form a capacitor (C3, C4), and a third metal layer connected with vias to the first metal layer and overlapped with the second metal layer to form a second capacitor (C1, C2). At least one capacitance (C5, C6, C7, C8) in at least one of a junction between the at least one well and the substrate and between overlapped metal layers of the first metal layer, the second metal layer, and the third metal layer.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZJB19vf19ffTdXcMcVVw9A3w8XTzdA1ScPYMcg71DOFhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHeQUYGRiYGBgaWFmaGjsbEqQIAD9Eh4w</recordid><startdate>20240123</startdate><enddate>20240123</enddate><creator>TESTA PAOLO VALERIO</creator><creator>SYED SHAFIULLAH</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240123</creationdate><title>COMMON-GATE AMPLIFIER CIRCUIT</title><author>TESTA PAOLO VALERIO ; SYED SHAFIULLAH</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20240009861A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2024</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>TESTA PAOLO VALERIO</creatorcontrib><creatorcontrib>SYED SHAFIULLAH</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>TESTA PAOLO VALERIO</au><au>SYED SHAFIULLAH</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>COMMON-GATE AMPLIFIER CIRCUIT</title><date>2024-01-23</date><risdate>2024</risdate><abstract>본 개시는 반도체 구조체들에 관한 것이고, 더 상세하게는, 공통-게이트 증폭기 회로 및 동작 방법들에 관한 것이다. 그 구조체는, 기판에서의 적어도 하나의 웰, 트랜지스터 회로의 게이트에 연결되는 제1 금속 층, 제1 금속 층 위에 중첩되어 제1 커패시터를 형성하는 제2 금속 층, 및 제1 금속 층에 비아들로 연결되고 제2 금속 층과 중첩되어 제2 커패시터를 형성하는 제3 금속 층을 포함한다. 적어도 하나의 커패시턴스는 적어도 하나의 웰과 기판 사이 그리고 제1 금속 층, 제2 금속 층, 및 제3 금속 층의 중첩된 금속 층들 사이의 접합부 중 적어도 하나에 있다.
The present disclosure relates to semiconductor structures and, more particularly, to a common-gate amplifier circuit and methods of operation. The structure includes at least one well in a substrate, a first metal layer connected to a gate of a transistor circuit, a second metal layer overlapped over the first metal layer to form a capacitor (C3, C4), and a third metal layer connected with vias to the first metal layer and overlapped with the second metal layer to form a second capacitor (C1, C2). At least one capacitance (C5, C6, C7, C8) in at least one of a junction between the at least one well and the substrate and between overlapped metal layers of the first metal layer, the second metal layer, and the third metal layer.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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