SURFACE TREATMENT APPARATUS FOR SURFACE-TREATING POWDER

본 발명은 분말의 표면 처리 장치에 관한 것으로서, 공정 후 분말의 로딩 및 언로딩을 위해 메인 챔버를 냉각시키고 다시 승온시키는 과정을 삭제할 수 있고, 공정 완료 후 메인 챔버 냉각 없이 연속적으로 분말의 로딩 및 언로딩이 가능한 분말의 표면 처리 장치를 제공하는데 주된 목적이 있는 것이다. 상기한 목적을 달성하기 위해, 각각의 내부공간에 분말이 충전된 상태로 메인 챔버의 수용공간을 따라 다단으로 적층 배치되고 메인 챔버의 수용공간으로 주입된 가스가 통과하도록 된 복수 개의 서브 챔버; 비활성 가스가 충전된 하우징의 밀폐된 내부공간에서 메인 챔버의 수용공간 내에 새로운 서브 챔버를 로딩하는 로딩 장치; 및 비활성 가스가 충전된 하우징의 밀폐된 내부공간에서 메인 챔버의 수용공간에 적층 배치된 복수 개의 서브 챔버들 중 적어도 하나를 수용공간으로부터 배출 및 언로딩하는 언로딩 장치를 포함하는 분말의 표면 처리 장치가 개시된다. An embodiment powder-surface treatment apparatus includes a housing defining an internal space, a main chamber installed in the internal space and defining an accommodation space in which a surface treatment process is performable using ALD, an injection unit provided on a first end portion of the main chamber, a plurality of sub-chambers arranged in a stack on top of each other in a multi-step configuration along the accommodation space in the main chamber in a state where an internal space in each of the plurality of sub-chambers is filled with a powder, a discharging unit provided on a second end portion of the main chamber, a loading apparatus configured to load a new sub-chamber into the accommodation space in the main chamber, and an unloading apparatus configured to unload and discharge at least one of the plurality of sub-chambers from the accommodation space to the outside.