SUBSTRATE TEMPERATURE MEASURING DEVICE SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME AND SUBSTRATE TEMPERATURE MEASURING METHOD USING THE SAME
본 발명은 복수의 파장을 이용하여 기판의 온도를 측정하는 기판 온도 측정 장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 기판 온도 측정 장치는, 기판으로부터 제공되는 제1 파장을 갖는 제1 광의 제1 광량, 제2 파장을 갖는 제2 광의 제2 광량, 및 제3 파장을 갖는 제3 광의 제3 광량을 센싱하는 센서부, 센싱된 제1 광량, 제2 광량, 및 제3 광량을 통해 제1 파장에 대한 제1 온도, 제2 파장에 대한 제2 온도, 및 제3 파장에 대한 제3 온도를 계산하는 제1 연산부, 제1 온도, 제2 온도, 및 제3 온도를 통해 기판의 방사율, 및...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!