DRAIN CUP FOR A SUBSTRATE-CLEANING APPARATUS

기판 세정 장치용 드레인 컵은 컵 몸체, 적어도 하나의 세정액 노즐 및 메시 망을 포함할 수 있다. 상기 컵 몸체는 기판 세정 장치의 처리액 노즐의 하부에 배치될 수 있다. 컵 몸체는 세정액이 공급되는 세정액 포트 및 상기 세정액에 의해 발생된 배출액이 배출되는 배출액 포트를 포함할 수 있다. 상기 세정액 노즐은 상기 세정액 포트에 연결되어 상기 세정액을 상기 컵 몸체 내로 분사할 수 있다. 상기 메시 망은 상기 배출액 포트의 위에 위치하도록 상기 컵 몸체 내에 수평하게 배치될 수 있다. 상기 메시 망은 상기 배출액을 임시로 저장하...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	JUN YONG MYUNG, KIM HYUN CHUL, KWON OH CHEL, SEO CHANG SEOK, HUH IN SUNG, CHOI DAE WOONG
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL ATOMISING APPARATUS BASIC ELECTRIC ELEMENTS CLEANING CLEANING IN GENERAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY NOZZLES PERFORMING OPERATIONS PREVENTION OF FOULING IN GENERAL SEMICONDUCTOR DEVICES SPRAYING APPARATUS SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	기판 세정 장치용 드레인 컵은 컵 몸체, 적어도 하나의 세정액 노즐 및 메시 망을 포함할 수 있다. 상기 컵 몸체는 기판 세정 장치의 처리액 노즐의 하부에 배치될 수 있다. 컵 몸체는 세정액이 공급되는 세정액 포트 및 상기 세정액에 의해 발생된 배출액이 배출되는 배출액 포트를 포함할 수 있다. 상기 세정액 노즐은 상기 세정액 포트에 연결되어 상기 세정액을 상기 컵 몸체 내로 분사할 수 있다. 상기 메시 망은 상기 배출액 포트의 위에 위치하도록 상기 컵 몸체 내에 수평하게 배치될 수 있다. 상기 메시 망은 상기 배출액을 임시로 저장하는 복수개의 저장부들 및 상기 저장부들보다 위에 위치하여 상기 저장부들에 저장된 상기 배출액을 상기 배출액 포트로 배출되도록 하는 복수개의 배출구들을 포함할 수 있다. 따라서, 배출액에 의한 메니스커스(meniscus)가 배출구들에 형성되어, 컵 몸체의 위를 향하는 아웃 개싱(outgassing)이 메니스커스에 의해 차단되어, 퓸의 형성이 억제될 수 있다.