LIQUID PROCESSING APPARATUS

본 발명은, 기판의 회전 도포 처리 시에 발생하는 이물에 의한 배기 경로의 막힘을 억제한다. 기판 상에 도포액을 도포하는 액 처리 장치이며, 상기 기판을 보유 지지해서 회전시키는 기판 보유 지지부와, 해당 기판 보유 지지부에 보유 지지된 상기 기판에 상기 도포액을 공급하는 도포액 공급부와, 상기 기판 보유 지지부에 보유 지지되는 상기 기판을 둘러싸는 컵과, 상기 도포액 포집부에 상기 도포액의 용제를 공급하는 용제 공급부를 포함하고, 상기 컵은, 상기 기판 보유 지지부의 외측에 배치된 외측 컵부와, 상기 외측 컵부의 내주측이면서 또한 상기 기판 보유 지지부의 하방에 배치되고, 하방으로 연장된 벽체를 갖는 내측 컵부와, 상기 외측 컵부와 상기 내측 컵부의 사이에 마련된 배기 경로와, 배기류가 통과하는 복수의 개구부가 마련되고, 상기 내측 컵부의 상기 벽체의 하방에서, 해당 벽체의 하단과의 사이에 간극을 두고 하방으로 연장된 상기 도포액 포집부를 포함한다. A liquid processing apparatus that applies a coating liquid onto a substrate, includes: a substrate holder that holds and rotates the substrate; a coating liquid supplier that supplies the coating liquid to the substrate; a cup provided to surround the substrate; and a solvent supplier that supplies a solvent for the coating liquid to a coating liquid collector. The cup includes: an outer cup arranged outside the substrate holder; an inner cup arranged on an inner peripheral side of the outer cup below the substrate holder and having a downwardly-extending wall; an exhaust path provided between the outer and inner cups; and the coating liquid collector provided with a plurality of openings through which an exhaust flow passes, the coating liquid collector extending downward below the downwardly-extending wall of the inner cup with a gap between the coating liquid collector and a lower end of the downwardly-extending wall.