기판 프로세싱 챔버들을 위한 자기적으로 커플링된 RF 필터

반도체 기판들을 프로세싱하기 위한 반도체 프로세싱 챔버는, 히터 존들을 갖고 기판을 지지하기 위한 페데스탈 및 플라즈마에 RF(Radio Frequency) 신호를 전달하도록 구성된 와이어 메쉬를 포함할 수 있다. 챔버는 또한 히터 존에 전류를 전달하는 히터 존 컨트롤들 및 히터 존 컨트롤들과 히터 존들 사이의 필터 회로를 포함할 수 있다. 필터 회로는 히터 존들로부터의 리드들 상의 인덕터들 및 리드 인덕터들에 자기적으로 커플링된 공진 인덕터를 갖는 공진 회로를 포함할 수 있다. 공진 회로는 RF 신호가 히터 존 컨트롤들에 도달하는...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	DZILNO DMITRY A, GARACHTCHENKO ALEXANDER V, HAMMOND EDWARD P
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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