기판으로부터 포토레지스트를 제거하기 위한 조성물 및 이의 용도

개시되고 청구된 청구 대상은 (i) 하나 이상의 무기 염기; (ii) 둘 이상의 유기 용매; (iii) 하나 이상의 부식 억제제를 포함하고 선택적으로 (iv) 하나 이상의 이차 용매(들)를 포함할 수 있는, 포토레지스트 스트리퍼 용액에 관한 것이다. The disclosed and claimed subject matter relates to photoresist stripper solutions that include (i) one or more inorganic bases; (ii) two or more organic solven...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	CAO YUANMEI, WANG LILI
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	ANIMAL AND VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES AND WAXES APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CANDLES CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY DETERGENT COMPOSITIONS DETERGENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY FATTY ACIDS THEREFROM HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS RECOVERY OF GLYCEROL RESIN SOAPS SEMICONDUCTOR DEVICES SOAP OR SOAP-MAKING USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	개시되고 청구된 청구 대상은 (i) 하나 이상의 무기 염기; (ii) 둘 이상의 유기 용매; (iii) 하나 이상의 부식 억제제를 포함하고 선택적으로 (iv) 하나 이상의 이차 용매(들)를 포함할 수 있는, 포토레지스트 스트리퍼 용액에 관한 것이다. The disclosed and claimed subject matter relates to photoresist stripper solutions that include (i) one or more inorganic bases; (ii) two or more organic solvents; (iii) one or more corrosion inhibitors and can optionally include (iv) one or more secondary solvent(s).