Auto-leveling apparatus for substrate processing equipment

본 발명 틸팅 구조를 포함한 기판 처리장치의 오토 레벨링 장치는, 프로세싱 챔버 내부에 배치된 상태로 기판의 저면을 지지하며, 기판의 처리를 위해 선택적으로 가열되는 서셉터; 상기 서셉터의 중심부 저면에 결합되는 봉상의 지지로드; 상기 지지로드의 하단에 결합되는 환형의 캐리어부; 상기 캐리어부의 측면 둘레에 셋 이상 구비되어 내부에 수직하게 배치된 볼스크류가 구비되는 수직 레일부; 상기 수직 레일부의 각 하단에 구비되어 볼스크류의 정,역회전을 독립적으로 제어하는 서보 모터; 상기 수직 레일부의 볼스크류에 끼워진 상태로 나사 결합되고...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KIM DAE HYUN, KIM BO SUN, BAIK CHOON KUM, LEE GI YEON, KIM MI YOUN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명 틸팅 구조를 포함한 기판 처리장치의 오토 레벨링 장치는, 프로세싱 챔버 내부에 배치된 상태로 기판의 저면을 지지하며, 기판의 처리를 위해 선택적으로 가열되는 서셉터; 상기 서셉터의 중심부 저면에 결합되는 봉상의 지지로드; 상기 지지로드의 하단에 결합되는 환형의 캐리어부; 상기 캐리어부의 측면 둘레에 셋 이상 구비되어 내부에 수직하게 배치된 볼스크류가 구비되는 수직 레일부; 상기 수직 레일부의 각 하단에 구비되어 볼스크류의 정,역회전을 독립적으로 제어하는 서보 모터; 상기 수직 레일부의 볼스크류에 끼워진 상태로 나사 결합되고, 서보 모터의 정,역회전에 따라 볼스크류를 따라 승하강되는 승강부재; 및 상기 승강부재에 일단이 각각 결합되고, 타단이 캐리어부의 측면에 각각 결합된 상태로 승강부재의 승하강에 의해 캐리어부의 측면 접선에 평행한 수평축 상에서 발생되는 틸팅 또는 무빙 모션을 캐리어부로 전달하는 셋 이상의 틸팅 모션 전달부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.