도금 장치, 및 도금 방법

다각형 기판에 도금되는 막의 면내 균일성을 향상시킨다. 도금 장치는 도금조와, 다각형 기판을 보유 지지하도록 구성되는 기판 홀더와, 상기 기판 홀더에 보유 지지된 기판과 대향하도록 상기 도금조 내에 배치된 애노드와, 상기 다각형 기판의 외형에 대응한 개구를 획정하는 애노드 마스크를 구비한다. 애노드 마스크는, 상기 개구에 있어서의 상기 다각형 기판의 제1 변에 대응한 제1 개구 변의 중앙부에 당해 개구의 중앙을 향하여 돌출되는 제1 볼록부를 획정하는 제1 마스크 부재와, 상기 개구에 있어서의 상기 다각형 기판의 제2 변에 대응한 제2 개구 변의 중앙부에 당해 개구의 중앙을 향하여 돌출되는 제2 볼록부를 획정하는 제2 마스크 부재를 갖고, 상기 제1 마스크 부재와 상기 제2 마스크 부재의 서로의 거리를 조정할 수 있도록 구성된다. The present invention improves the in-plane uniformity of a plating film that is formed on a polygonal substrate. A plating apparatus according to the present invention is provided with: a plating bath; a substrate holder which is configured so as to hold a polygonal substrate; an anode which is arranged within the plating bath so as to face the substrate that is held by the substrate holder; and an anode mask which delimits an opening that corresponds to the outer shape of the polygonal substrate. The anode mask comprises: a first mask member that delimits a first projection, which protrudes toward the center of the opening, at the central part of a first opening side of the opening, the first opening side corresponding to a first side of the polygonal substrate; and a second mask member that delimits a second projection, which protrudes toward the center of the opening, at the central part of a second opening side of the opening, the second opening side corresponding to a second side of the polygonal substrate. Meanwhile, the anode mask is configured such that the distance between the first mask member and the second mask member is able to be adjusted.