멀티-스테이션 반도체 프로세싱 챔버에서 균일한 유체 전달을 위한 장치들

본 개시는 반도체 프로세싱을 위한 시스템에 관한 것이다. 시스템은 복수의 프로세싱 스테이션들, 복수의 매니폴드 트렁크들 (manifold trunks), 복수의 밸브들, 및 복수의 유체 매니폴드들을 갖는 반도체 프로세싱 챔버를 포함한다. 매니폴드 트렁크 각각은 유출구, 공통 플로우 경로, 복수의 트렁크 유입구들, 복수의 오리피스들 (orifices), 및 복수의 밸브 인터페이스들을 포함한다. The present disclosure relates to a system for a semiconductor processing. The system includes a semiconductor processing chamber having a plurality of processing stations, a plurality of manifold trunks, a plurality of valves, and a plurality of fluid manifolds. Each manifold trunk includes an outlet, a common flowpath, a plurality of trunk inlets, a plurality of orifices, and a plurality of valve interfaces.