Photosensitive resin composition

본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 특정 수준 이상의 유리전이온도를 갖는 호모폴리머를 제공하는 모노머로부터 유래된 중합 단위를 포함하는 알칼리 가용성 공중합체 수지, 광중합성 화합물 및 광개시제를 포함하며, 포토리소그래피 공정을 통해 패턴 형성이 가능하고, 수용성 알칼리 용액으로 제거 가능하며, 경화 후 패턴 형상을 양호하게 유지할 수 있어 LED, TFT-LCD, MEMS, 반도체 분야에서 적합하게 사용될 수 있는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다....

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	JEONG EUN MI, YOO KWON YIL, SEE YOON KI, KIM TAE OON, LEE DUCK HEE, KIM MIN SU, HAN MI JUNG, BAE GO UN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 특정 수준 이상의 유리전이온도를 갖는 호모폴리머를 제공하는 모노머로부터 유래된 중합 단위를 포함하는 알칼리 가용성 공중합체 수지, 광중합성 화합물 및 광개시제를 포함하며, 포토리소그래피 공정을 통해 패턴 형성이 가능하고, 수용성 알칼리 용액으로 제거 가능하며, 경화 후 패턴 형상을 양호하게 유지할 수 있어 LED, TFT-LCD, MEMS, 반도체 분야에서 적합하게 사용될 수 있는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.