Developing apparatus

본 발명의 실시예에 따른 현상 장치는 바디와, 바디에 고정 설치되며 가스가 유동하는 가스 유동로를 구비하는 버퍼 플레이트와, 상기 버퍼 플레이트의 상면에 고정 설치되며 상기 가스 유동로에 연결되는 가스 공급홀을 가지는 진공 플레이트 및 상기 진공 플레이트의 가장자리에 고정 설치되어 상기 가스 공급홀을 통해 제공되는 가스의 유동 경로를 제공하는 슬릿 블럭을 포함하며, 상기 슬릿 블럭은 상기 진공 플레이트와 함께 가스가 유입되는 버퍼 공간과, 상기 버퍼 공간에 연결되며 경사지게 배치되는 제1 유로를 형성한다. A developing apparatus includes a body; a buffer plate on the body and including a gas flow path; a vacuum plate on an upper surface of the buffer plate and having a gas supply hole in fluid communication with the gas flow path; and a slit block on an edge of the vacuum plate, the slit block and the vacuum plate forming a flow path for gas from the gas supply hole, wherein a substrate is holdable on the vacuum plate, a contact area between the substrate and the vacuum plate being 90% or more of an area of the substrate, the slit block and the vacuum plate form a buffer space and an inclined first flow path in fluid communication with the buffer space, and the slit block and an edge of the substrate forms a second flow path in fluid communication with the first flow path.