Layer deposition apparatus having multi-stage heaters

박막 증착 장치는, 복수의 기판을 처리하기 위한 구획된 공간을 형성하는 챔버와, 상기 챔버 내에서 상기 복수의 기판 각각의 하면에 대응하도록 배치되어 상기 복수의 기판을 가열하는 복수의 히터 블록과, 상기 복수의 히터 블록에 대해 승강하면서 상기 기판의 하면을 지지하는 리프트 부재와, 상기 복수의 히터 블록을 일체로 연결하는 연결봉과, 상기 복수의 기판에 공정 가스를 공급하는 복수의 분사 포트로 이루어진다. 여기서, 상기 리프트 부재는, 상기 복수의 기판 각각을 하면에서 지지하는 서포트 판과, 복수의 히터 블록 관통하여 승강할 수...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	LEE BAEK JU
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	박막 증착 장치는, 복수의 기판을 처리하기 위한 구획된 공간을 형성하는 챔버와, 상기 챔버 내에서 상기 복수의 기판 각각의 하면에 대응하도록 배치되어 상기 복수의 기판을 가열하는 복수의 히터 블록과, 상기 복수의 히터 블록에 대해 승강하면서 상기 기판의 하면을 지지하는 리프트 부재와, 상기 복수의 히터 블록을 일체로 연결하는 연결봉과, 상기 복수의 기판에 공정 가스를 공급하는 복수의 분사 포트로 이루어진다. 여기서, 상기 리프트 부재는, 상기 복수의 기판 각각을 하면에서 지지하는 서포트 판과, 복수의 히터 블록 관통하여 승강할 수 있고 상기 서포트 판을 종방향으로 결합하는 지지 칼럼으로 구성되고, 상기 서포트 판은 상기 지지 칼럼으로부터 상기 복수의 기판의 반경방향 내측으로 연장되어 상기 복수의 기판의 하면 에지 부분을 지지한다.