Substrate supporting unit and Substrate processing apparatus having the same

본 발명은 기판지지유닛 및 이를 구비한 기판처리장치에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 기판에 대해 플라즈마를 이용하여 처리공정을 진행하는 경우에 기판의 중앙부와 가장자리부의 플라즈마 불균일성을 해소할 수 있는 기판지지유닛 및 이를 구비한 기판처리장치에 대한 것이다....

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Hauptverfasser: JEON SANG JEAN, HWANG HYUN SANG
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명은 기판지지유닛 및 이를 구비한 기판처리장치에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 기판에 대해 플라즈마를 이용하여 처리공정을 진행하는 경우에 기판의 중앙부와 가장자리부의 플라즈마 불균일성을 해소할 수 있는 기판지지유닛 및 이를 구비한 기판처리장치에 대한 것이다.