Substrate supporting unit and Substrate processing apparatus having the same
본 발명은 기판지지유닛 및 이를 구비한 기판처리장치에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 기판에 대해 플라즈마를 이용하여 처리공정을 진행하는 경우에 기판의 중앙부와 가장자리부의 플라즈마 불균일성을 해소할 수 있는 기판지지유닛 및 이를 구비한 기판처리장치에 대한 것이다....
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Hauptverfasser: | , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | 본 발명은 기판지지유닛 및 이를 구비한 기판처리장치에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 기판에 대해 플라즈마를 이용하여 처리공정을 진행하는 경우에 기판의 중앙부와 가장자리부의 플라즈마 불균일성을 해소할 수 있는 기판지지유닛 및 이를 구비한 기판처리장치에 대한 것이다. |
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