Plasma chamber forming swirl motion with side gas feed

본 발명은 스월 모션을 형성하는 사이드 가스 피드가 구비된 플라즈마 챔버에 관한 것으로, 상기 웨이퍼가 안착되는 안착부가 구비된 하우징; 상기 하우징의 측면에 구비되며, 상기 하우징의 내부로 가스를 분사하는 사이드 가스 피드;를 포함하며, 상기 하우징에는 복수 개의 상기 사이드 가스 피드가 구비되며, 상기 사이드 가스 피드는 가스가 분사되는 노즐홀이 구비되는 노즐을 포함하며, 상기 사이드 가스 피드는, 상기 하우징의 벽면을 향하여 가스를 분사하는 것을 특징으로 하는 것이다. The present invention relates to a plasma chamber having a side gas feed for forming a swirl motion, the plasma chamber comprising: a housing having a seating portion on which a wafer is seated; and a side gas feed formed on a lateral surface of the housing so as to eject a gas into the housing. The housing has a plurality of the side gas feeds. Each side gas feed comprises a nozzle through which a gas is ejected, thereby ejecting a gas toward a wall surface of the housing.