MANUFACTURING METHOD OF VAPOR DEPOSITION MASK AND LONG METAL PLATE

본 발명은, 양호한 반송성을 갖는 금속판을 제공하는 것을 목적으로 한다. 금속판의 폭 방향의 중앙 부분에 있어서의 급준도의 최댓값은, 0.4% 이하로 되어 있다. 또한, 중앙 부분에 있어서의 급준도의 최댓값은, 일 단부측 부분에 있어서의 급준도의 최댓값 이하로 되어 있고, 또한, 타 단부측 부분에 있어서의 급준도의 최댓값 이하로 되어 있다. 또한, 일 단부측 부분에 있어서의 급준도의 최댓값과, 타 단부측 부분에 있어서의 급준도의 최댓값의 차는, 0.4% 이하로 되어 있다. The object of the present inventi...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	MIYATANI ISAO, IKENAGA CHIKAO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL MATERIALS THEREFOR MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVINGMATERIAL METALLURGY MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLICMATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASSC23 AND AT LEAST ONEPROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25 NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS PUNCHING METAL ROLLING OF METAL SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은, 양호한 반송성을 갖는 금속판을 제공하는 것을 목적으로 한다. 금속판의 폭 방향의 중앙 부분에 있어서의 급준도의 최댓값은, 0.4% 이하로 되어 있다. 또한, 중앙 부분에 있어서의 급준도의 최댓값은, 일 단부측 부분에 있어서의 급준도의 최댓값 이하로 되어 있고, 또한, 타 단부측 부분에 있어서의 급준도의 최댓값 이하로 되어 있다. 또한, 일 단부측 부분에 있어서의 급준도의 최댓값과, 타 단부측 부분에 있어서의 급준도의 최댓값의 차는, 0.4% 이하로 되어 있다. The object of the present invention is to provide a metal plate having an excellent transportability. A maximum value of a steepness degree at a central area in a width direction of the metal plate is not more than 0.4%. In addition, the maximum value of the steepness degree at the central area is not more than a steepness degree at one end side area, and is not more than a steepness degree at the other end side area. Further, a difference between the maximum value of the steepness degree at the one end side area and the maximum value of the steepness degree at the other end side area is not more than 0.4%.