UNIT FOR SUPPLYING LIQUID AND APPARATUS FOR TREATING A SUBSTRATE

The present invention comprises: a cup providing a processing space therein; a support unit which supports a substrate in the processing space and rotates a substrate; a nozzle which supplies a processing solution to the substrate; and a liquid supply unit which supplies the processing solution to the nozzle. The liquid supply unit comprises a tank for storing the processing solution. The tank comprises: a housing having a space storing the processing solution therein; a circulation line which is coupled to the housing to circulate the stored processing solution; and an exhaust line which exhausts the atmosphere in the tank to the outside. The circulation line comprises: a heater which heats the processing solution; and a spraying pipe which is extended to the inside of the housing, and sprays the heated processing solution into the housing. Provided is the substrate processing apparatus, wherein the spray pipe has a plurality of holes formed on the side surface along the longitudinal direction. Therefore, according to the present invention, the tank structure adjusts the density of the processing solution by means of the evaporation of water, which shortens the time required for the adjustment of the density of the processing solution. 본 발명은, 내부에 처리 공간을 제공하는 컵과 상기 처리 공간에 기판을 지지하고 기판을 회전시키는 지지 유닛과 상기 기판에 처리액을 공급하는 노즐과 그리고 상기 노즐로 상기 처리액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되, 상기 액 공급 유닛은, 처리액을 저장하는 탱크를 포함하고, 상기 탱크는, 내부에 처리액이 저장되는 공간을 가지는 하우징과 상기 하우징에 결합되어 저장된 상기 처리액을 순환시키는 순환 라인 그리고 상기 탱크 내부의 분위기를 외부로 배기하는 배기 라인을 포함하며, 상기 순환 라인은, 상기 처리액을 가열하는 히터; 그리고, 상기 하우징의 내부까지 연장되고, 상기 하우징 내부로 가열된 상기 처리액을 분사하는 분사관을 포함하고, 상기 분사관은, 길이 방향을 따라 측면에 복수의 홀이 형성되는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 상기와 같은 본 발명에 따르면, 물의 증발에 의해 처리액의 농도를 조정하는 탱크 구조에서 처리액의 농도 조절에 소요되는 시간을 단축할 수 있는 효과가 있다.