비-침습적인 암 치료 기술

표적 암 부위를 치료하기 위한 장치(1)가 제공된다. 이러한 장치는 전극과 표적 부위 사이의 전기 접촉을 방지하기 위한 전기 절연 코팅이 된 하나 이상의 전극을 포함하는 전자기 방출기(10)를 포함한다. 전자기 방출기(10)는 하나 이상의 전극을 통하여 표적 부위(30)에 종양 치료장을 제공하도록 구성되고, 종양 치료장은 10 kHz 내지 300 kHz의 주파수를 가지고 0.1 pT 내지 1 mT의 자속 밀도를 더 가지는 비-이온화 교류 전자기장이다. 치료 장치는 표적 부위에서 온열요법이 이루어지도록 표적 부위에 가열을 제공하도록...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: ESTRELA ARIGUEL JOSE MARIA, NAVARRO CAMBA ENRIQUE, OBRADOR PLA MARIA ELENA, CIBRIAN ORTIZ DE ANDA ROSA MARIA, HERRERA GASPAR JOSE JUAN
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:표적 암 부위를 치료하기 위한 장치(1)가 제공된다. 이러한 장치는 전극과 표적 부위 사이의 전기 접촉을 방지하기 위한 전기 절연 코팅이 된 하나 이상의 전극을 포함하는 전자기 방출기(10)를 포함한다. 전자기 방출기(10)는 하나 이상의 전극을 통하여 표적 부위(30)에 종양 치료장을 제공하도록 구성되고, 종양 치료장은 10 kHz 내지 300 kHz의 주파수를 가지고 0.1 pT 내지 1 mT의 자속 밀도를 더 가지는 비-이온화 교류 전자기장이다. 치료 장치는 표적 부위에서 온열요법이 이루어지도록 표적 부위에 가열을 제공하도록 구성된 열원(20)을 더 포함한다. 치료 장치는 비-이온화 교류 전자기장 및 가열을 독립적으로 적용하도록 구성된다. 치료 장치는 전자기 방출기 및 열원을 전자식으로 제어하기 위한 전자 제어기를 포함한다. An apparatus (1) for treating a cancerous target site is provided. The apparatus comprises an electromagnetic emitter (10) configured to provide a non-ionizing alternating electromagnetic field at a target site (30). The apparatus further comprises a heat source (20) configured to provide heating at the target site to cause hyperthermia at the target site. The apparatus is configured to apply the non-ionizing alternating electromagnetic field and the heating independently.