MASK ASSEMBLY

리소그래피 공정에 사용하기에 적합한 마스크 조립체가 제공되고, 마스크 조립체는 패터닝 디바이스; 및 마운트로 패터닝 디바이스에 장착되고 펠리클을 지지하도록 구성된 펠리클 프레임을 포함하고, 마운트는 펠리클 프레임과 패터닝 디바이스 사이에 갭이 존재하도록 패터닝 디바이스에 대해 펠리클 프레임을 서스펜드하도록 구성되며, 마운트는 패터닝 디바이스와 펠리클 프레임 사이에 해제가능하게 맞물림가능한 부착을 제공한다. A mask assembly suitable for use in a lithographic process, the mask as...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	VAN DEN HEIJKANT SANDER, KRAMER RONALD HARM GUNTHER, LIPSON MATTHEW, LYONS JOSEPH H, BOGAART ERIK WILLEM, VAN DER MEULEN FRITS, KAMALI MOHAMMAD REZA, VERBRUGGE BEATRIJS LOUISE MARIE JOSEPH KATRIEN, LEENDERS MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS, BROUNS DERK SERVATIUS GERTRUDA, VAN DEN BOSCH GERRIT, AZEREDO LIMA JORGE MANUEL, LOOPSTRA ERIK ROELOF, VAN LOO JEROME FRANCOIS SYLVAIN VIRGILE, VAN DER GRAAF SANDRA, JANSEN MAARTEN MATHIJS MARINUS, JANSSEN PAUL, BRULS RICHARD JOSEPH, DEKKERS JEROEN, KRUIZINGA MATTHIAS, BRUIJN MARC, LANSBERGEN ROBERT GABRIEL MARIA, ROUX STEPHEN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	리소그래피 공정에 사용하기에 적합한 마스크 조립체가 제공되고, 마스크 조립체는 패터닝 디바이스; 및 마운트로 패터닝 디바이스에 장착되고 펠리클을 지지하도록 구성된 펠리클 프레임을 포함하고, 마운트는 펠리클 프레임과 패터닝 디바이스 사이에 갭이 존재하도록 패터닝 디바이스에 대해 펠리클 프레임을 서스펜드하도록 구성되며, 마운트는 패터닝 디바이스와 펠리클 프레임 사이에 해제가능하게 맞물림가능한 부착을 제공한다. A mask assembly suitable for use in a lithographic process, the mask assembly comprising a patterning device; and a pellicle frame configured to support a pellicle and mounted on the patterning device with a mount; wherein the mount is configured to suspend the pellicle frame relative to the patterning device such that there is a gap between the pellicle frame and the patterning device; and wherein the mount provides a releasably engageable attachment between the patterning device and the pellicle frame.