Droplet inspecting unit and substrate treating apparatus including the same

Provided are a droplet inspection unit including a rotatable camera and a substrate processing device including the same. The substrate processing device includes: a processing unit which supports a substrate while the substrate is being processed; an inkjet head unit that discharges liquid droplets...

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Hauptverfasser: KANG HAN LIM, JIN WON YONG, LEE JAE DUCK
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:Provided are a droplet inspection unit including a rotatable camera and a substrate processing device including the same. The substrate processing device includes: a processing unit which supports a substrate while the substrate is being processed; an inkjet head unit that discharges liquid droplets on the substrate; a gantry unit which moves the inkjet head unit; and a droplet inspection unit which inspects the droplet. The droplet inspection unit includes: a measurement module which measures droplets; a processing module which inspects the droplet by analyzing measurement results of the droplet; and a rotation module for rotating the measurement module, if the measurement module measures droplets. 회전 가능한 카메라를 포함하는 액적 검사 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다. 상기 기판 처리 장치는, 기판이 처리되는 동안 기판을 지지하는 공정 처리 유닛; 기판 상에 액적을 토출하는 잉크젯 헤드 유닛; 잉크젯 헤드 유닛을 이동시키는 갠트리 유닛; 및 액적을 검사하는 액적 검사 유닛을 포함하며, 액적 검사 유닛은, 액적을 측정하는 측정 모듈; 액적의 측정 결과를 분석하여 액적을 검사하는 처리 모듈; 및 측정 모듈이 액적을 측정하는 경우, 측정 모듈을 회전시키는 회전 모듈을 포함한다.