SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD

Provided is a technology for improving the temperature uniformity of a substrate on which a drying liquid is accumulated before the substrate is loaded into a processing container. A substrate processing device comprises: a tray; the processing container; a moving unit; a supply unit; a discharge unit; and a cooling unit. The tray holds the substrate on which the drying liquid is accumulated horizontally from below. The processing container accommodates the substrate with the tray. The moving unit moves the tray between a standby position outside the processing container and a processing position inside the processing container. The supply unit supplies a supercritical fluid replaced by the drying liquid to the inside of the processing container. The discharge unit discharges the supercritical fluid from the inside of the processing vessel to the outside. The cooling unit cools the tray waiting at the standby position from below the tray, thereby cooling the substrate on which the drying liquid has accumulated. 건조액이 쌓여 있는 기판을 처리 용기의 내부에 반입하기 전에, 기판의 온도의 균일성을 향상시키는 기술을 제공한다. 기판 처리 장치는, 트레이와, 처리 용기와, 이동부와, 공급부와, 배출부와, 냉각부를 구비한다. 상기 트레이는, 건조액이 쌓여 있는 기판을 하방으로부터 수평하게 보유 지지한다. 상기 처리 용기는, 상기 트레이와 함께 상기 기판을 수용한다. 상기 이동부는, 상기 처리 용기의 외부의 대기 위치와 상기 처리 용기의 내부의 처리 위치 사이에서 상기 트레이를 이동시킨다. 상기 공급부는, 상기 처리 용기의 내부에, 상기 건조액으로 치환되는 초임계 유체를 공급한다. 상기 배출부는, 상기 처리 용기의 내부로부터 외부로 상기 초임계 유체를 배출한다. 상기 냉각부는, 상기 대기 위치에서 대기하고 있는 상기 트레이를 상기 트레이의 하방으로부터 냉각함으로써, 상기 건조액이 쌓인 상태의 상기 기판을 냉각한다.