성막용 재료, 성막용 슬러리, 용사 피막 및 용사 부재
희토류 원소 불화물의 결정상을 포함하는 입자와, 희토류 원소 산화물의 결정상을 포함하는 입자와, 희토류 원소 불화암모늄 복염의 결정상을 포함하는 입자를 포함하는 성막용 재료, 또는 희토류 원소 불화물의 결정상을 포함하는 입자와, 희토류 원소 산화물의 결정상 및 희토류 원소 불화암모늄 복염의 결정상을 포함하는 입자를 포함하는 성막용 재료를 사용해서 피막을 형성한다. 본 발명의 성막용 재료 또는 성막용 슬러리는, 특히 성막용 재료 또는 성막용 슬러리를 사용해서 용사에 의해 용사 피막을 형성하면, 과잉의 열량을 필요로 하지 않고 희토류...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 희토류 원소 불화물의 결정상을 포함하는 입자와, 희토류 원소 산화물의 결정상을 포함하는 입자와, 희토류 원소 불화암모늄 복염의 결정상을 포함하는 입자를 포함하는 성막용 재료, 또는 희토류 원소 불화물의 결정상을 포함하는 입자와, 희토류 원소 산화물의 결정상 및 희토류 원소 불화암모늄 복염의 결정상을 포함하는 입자를 포함하는 성막용 재료를 사용해서 피막을 형성한다. 본 발명의 성막용 재료 또는 성막용 슬러리는, 특히 성막용 재료 또는 성막용 슬러리를 사용해서 용사에 의해 용사 피막을 형성하면, 과잉의 열량을 필요로 하지 않고 희토류 원소 옥시불화물 용사 피막을 형성할 수 있으므로, 대기 하에서도 용사열에 의한 산화 반응의 진행을 억제하면서, 희토류 원소 불화물이나 희토류 원소 산화물이 적은 희토류 원소 옥시불화물 용사 피막이 얻어지고, 또한 과잉 열량의 영향에 의한 피막 박리를 억제할 수 있다.
The film is formed using one of two film-forming materials. The first film-forming material contains: particles containing a crystal phase of a rare earth element fluoride; particles containing a crystal phase of a rare earth element oxide; and particles containing a crystal phase of a rare earth element ammonium fluoride double salt. The second film-forming material contains: particles containing a crystal phase of a rare earth element fluoride; and particles containing a crystal phase of a rare earth element oxide and a crystal phase of a rare earth element ammonium fluoride double salt. If a spray coated film is to be formed by means of thermal spraying using this film-forming material or film-forming slurry in particular, it is possible to form a rare earth element oxyfluoride spray coated film without the need for excessive heat. |
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