측정 레시피를 결정하는 방법 및 연계된 메트롤로지방법들 및 장치들
노광 필드(EF)의 1 이상의 다이 영역 내에 위치된 다이-내 타겟들(IDM)의 측정을 위한 측정 레시피를 결정하는 방법이 개시된다. 상기 방법은 복수의 기준 타겟들(RF)의 측정에 관한 제 1 측정 데이터 및 복수의 다이-내 타겟들(IDM)의 측정에 관한 제 2 측정 데이터를 얻는 단계를 포함하며, 상기 타겟들은 각자의 상이한 오버레이 편향들을 갖고, 상기 측정 데이터를 획득하기 위해 복수의 상이한 획득 설정들을 사용하여 측정된다. 복수의 후보 측정 레시피들을 얻기 위해 상기 제 1 측정 데이터를 사용하여 1 이상의 기계 학습 모...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 노광 필드(EF)의 1 이상의 다이 영역 내에 위치된 다이-내 타겟들(IDM)의 측정을 위한 측정 레시피를 결정하는 방법이 개시된다. 상기 방법은 복수의 기준 타겟들(RF)의 측정에 관한 제 1 측정 데이터 및 복수의 다이-내 타겟들(IDM)의 측정에 관한 제 2 측정 데이터를 얻는 단계를 포함하며, 상기 타겟들은 각자의 상이한 오버레이 편향들을 갖고, 상기 측정 데이터를 획득하기 위해 복수의 상이한 획득 설정들을 사용하여 측정된다. 복수의 후보 측정 레시피들을 얻기 위해 상기 제 1 측정 데이터를 사용하여 1 이상의 기계 학습 모델이 트레이닝되고, 상기 후보 측정 레시피들은 트레이닝된 기계 학습 모델 및 대응하는 획득 설정의 복수의 조합들을 포함하며; 상기 제 2 측정 데이터를 사용하여 상기 후보 측정 레시피들로부터 선호되는 측정 레시피가 결정된다.
Disclosed is a method of determining a measurement recipe for measurement of in-die targets located within one or more die areas of an exposure field. The method comprises obtaining first measurement data relating to measurement of a plurality of reference targets and second measurement data relating to measurement of a plurality of in-die targets, said targets having respective different overlay biases and measured using a plurality of different acquisition settings for acquiring said measurement data. One or more machine learning models are trained using said first measurement data to obtain a plurality of candidate measurement recipes, wherein said candidate measurement recipes comprise a plurality of combinations of a trained machine learned model and a corresponding acquisition setting; and a preferred measurement recipe is determined from said candidate measurement recipes using said second measurement data. |
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