전기 도금 동안 테일러링된 유체 역학에 대한 공간적으로 그리고 치수적으로 불균일한 채널링된 플레이트

전기 도금 장치에 사용하기 위한 이온 저항성 이온 투과성 (ionically resistive ionically permeable) 엘리먼트는 전기 도금 동안 기판에 근접하게 유체역학 분위기를 테일러링하기 (tailor) 위한 리브들 (ribs) 을 포함한다. 일 구현 예에서, 이온 저항성 이온 투과성 엘리먼트는 기판의 도금면과 적어도 같은 공간을 차지하는 (coextensive) 채널링된 부분, 및 채널링된 부분의 기판-대면 표면으로부터 기판을 향해 연장하는 복수의 리브들을 포함한다. 리브들은 전체 최대 높이의 제 1 복수의 리브들 및 전체 최대 높이보다 더 작은 최대 높이의 제 2 복수의 리브들을 포함한다. 일 구현 예에서, 더 작은 최대 높이의 리브들은 리브들의 최대 높이가 엘리먼트의 일 에지로부터 엘리먼트의 중심으로의 방향으로 점진적으로 증가하도록 배치된다 (dispose). An ionically resistive ionically permeable element for use in an electroplating apparatus includes ribs to tailor hydrodynamic environment proximate a substrate during electroplating. In one implementation, the ionically resistive ionically permeable element includes a channeled portion that is at least coextensive with a plating face of the substrate, and a plurality of ribs extending from the substrate-facing surface of the channeled portion towards the substrate. Ribs include a first plurality of ribs of full maximum height and a second plurality of ribs of smaller maximum height than the full maximum height. In one implementation the ribs of smaller maximum height are disposed such that the maximum height of the ribs gradually increases in a direction from one edge of the element to the center of the element.