산업 시스템들에 대한 유체 라인 누출을 검출하고 진단하기위한 방법 및 시스템

복수의 히터를 갖는 유체 라인 시스템에서 누출 유도 비정상 조건을 검출하는 방법은 유체 라인 시스템의 복수의 위치에서 복수의 온도 특성을 결정하는 단계로서, 복수의 온도 특성 중에서의 각각의 온도는 복수의 히터 중에서의 적어도 하나의 히터와 연관되는 단계 및 복수의 히터 각각에 대해, 히터의 전기 특성을 모니터링하는 단계를 포함한다. 방법은 누출 유도 비정상 조건이 복수의 히터 중에서의 주어진 히터의 전기 특성 및 온도-및-전기 특성들(TEC) 편차 조건을 충족하는 주어진 히터와 연관된 온도 특성에 응답하여 유체 라인 시스템 내에...

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Hauptverfasser: PIZZELLA MIRANDA, JOHNSTON ROBERT E, SELVY ANDREW D, HOGARD CHELSEA, GANDER DANIEL
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:복수의 히터를 갖는 유체 라인 시스템에서 누출 유도 비정상 조건을 검출하는 방법은 유체 라인 시스템의 복수의 위치에서 복수의 온도 특성을 결정하는 단계로서, 복수의 온도 특성 중에서의 각각의 온도는 복수의 히터 중에서의 적어도 하나의 히터와 연관되는 단계 및 복수의 히터 각각에 대해, 히터의 전기 특성을 모니터링하는 단계를 포함한다. 방법은 누출 유도 비정상 조건이 복수의 히터 중에서의 주어진 히터의 전기 특성 및 온도-및-전기 특성들(TEC) 편차 조건을 충족하는 주어진 히터와 연관된 온도 특성에 응답하여 유체 라인 시스템 내에 존재한다고 결정하는 단계 및 누출 유도 비정상 조건이 존재한다고 결정하는 것에 응답하여 보정 액션을 수행하는 단계를 포함한다. A method of detecting a leak-induced abnormal condition in a semiconductor processing system comprising a subsystem. The method includes determining a performance characteristic of the semiconductor processing system. The method includes determining the leak-induced abnormal condition is present within the subsystem, wherein the determination of the presence of the leak-induced abnormal condition is based on the performance characteristic and a temperature characteristic of the subsystem. The method also includes performing a corrective action based on the determination of the presence of the leak-induced abnormal condition.