광학 시스템 및 광학 시스템을 동작시키는 방법

본 발명은 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치에서의 광학 시스템 및 광학 시스템을 동작하기 위한 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 양태에 따르면, 광학 시스템은 광학 유효 표면(101, 201, 301, 401, 501, 601) 및 거울 기판(110, 210, 310, 410, 510, 610)을 갖는 적어도 하나의 거울(100, 200, 300, 400, 500, 600), 거울 기판 내에 배열된 복수의 온도-조절 구역(131-136, 141-146, 231-236, 241-246, 331-336, 341-346, 431, 441-446, 531-536, 541, 631, 641) 및 온도-조절 디바이스(150, 250, 350, 450, 550, 650)를 포함하고, 상기 온도-조절 디바이스에 의해 각각의 온도-조절 구역에 존재하는 온도는 서로 독립적으로 조절 가능하고, 상기 온도-조절 구역은 광학 유효 표면으로부터 상이한 거리에서 적어도 2개의 평면에 배열되고, 상기 적어도 2개의 평면 내의 온도-조절 구역은, 냉각 채널로 구성되어, 이를 통해 서로 독립적으로 가변적인 조절 가능한 냉각 유체 온도의 냉각 유체가 흐를 수 있다. An optical system, for example in a microlithographic projection exposure apparatus, comprises a mirror and a temperature-regulating device. The mirror has an optical effective surface and a mirror substrate. A plurality of temperature-regulating zones are arranged in the mirror substrate. The temperature-regulating device is used to adjust the temperatures present in each of the temperature-regulating zones independently of one another. The temperature-regulating zones are arranged in at least two planes at different distances from the optical effective surface. The temperature-regulating zones in the at least two planes are configured as cooling channels through which, independently of one another, a cooling fluid at a variably adjustable cooling fluid temperature is able to flow. A method for operating such an optical system is provided.