Metal substrate and Mask using the same

An embodiment of the present invention relates to a metal substrate and a mask for deposition that maximizes deposition efficiency using and implementing the same, so as to provide the metal substrate and the mask for deposition equipped with a torsion index (Hr) that can minimize a torsion phenomenon that occurs when etching a metal substrate to manufacture the mask for deposition. The mask for deposition comprises a metal plate comprising a first surface and a second surface opposite to the first surface. 본 발명의 실시예는 금속기판과 이를 이용하여 구현하는 증착효율성을 극대화한 증찰용마스크에 대한 것으로, 증착용 마스크로 제조하기 위해 금속기판을 에칭하는 경우 발생하는 비틀림 현상을 최소화할 수 있는 비틀림 지수(Hr)를 구비한 금속기판과 증착용마스크를 제공할 수 있도록 한다.