Substrate processing apparatus

A substrate processing apparatus according to one aspect of the present invention comprises: an index module for transferring a substrate from a container containing the substrate; a process module for performing a coating process and a development process on the substrate transferred from the index module; and an interface module for exchanging substrates between the process module and the exposure device, wherein in the process module, a pretreatment device for pretreatment of the substrate is installed. The pretreatment device includes: a plurality of first pretreatment units vertically stacked in a first row; a plurality of second pretreatment units vertically stacked in a second row; and a loading robot for loading substrates into a plurality of first preprocessing chambers and a plurality of second preprocessing chambers. According to the present invention, preprocessing units are formed in at least two rows to increase preprocessing efficiency and increase productivity. 본 발명의 일 관점에 따른 기판 처리 장치는, 기판이 수납된 용기로부터 기판을 이송하기 위한 인덱스 모듈과, 상기 인덱스 모듈로부터 이송된 상기 기판에 대해서 코팅 공정 및 현상 공정을 수행하기 위한 공정 모듈과, 상기 공정모듈과 노광 장치 사이에서 상기 기판을 주고받기 위한 인터페이스 모듈을 포함하고, 상기 공정 모듈 내에는, 상기 기판의 전처리를 위한 전처리 장치가 설치되고, 상기 전처리 장치는, 제 1 열로 수직 적층된 복수의 제 1 전처리 유닛들과, 제 2 열로 수직 적층된 복수의 제 2 전처리 유닛들과, 상기 복수의 제 1 전처리 챔버들 및 상기 복수의 제 2 전처리 챔버들로 기판을 로딩하기 위한 로딩 로봇을 포함한다.