입자상 물질로부터 물을 제거하는 방법
니켈 또는 코발트 중 적어도 하나 및 니켈 외의 적어도 하나의 금속을 함유하는 (옥시)수산화물 및 탄산염으로부터 선택된 입자상 물질로부터 물을 제거하는 방법으로서, 상기 방법은 적어도 하나의 입자상 물질을 기준으로 물 함량이 1 내지 30 중량% 범위인 상기 적어도 하나의 입자상 물질을, 외부 가열 요소들이 있는 로터리 킬른에 도입하는 단계 및 상기 적어도 하나의 입자상 물질을 가스의 흐름과 함께 로터리 킬른을 통해 이동시키는 단계를 포함하고, 결과적인 생성물의 잔류 수분은 50 중량ppm 내지 1.5 중량% 범위인, 입자상 물질로...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 니켈 또는 코발트 중 적어도 하나 및 니켈 외의 적어도 하나의 금속을 함유하는 (옥시)수산화물 및 탄산염으로부터 선택된 입자상 물질로부터 물을 제거하는 방법으로서, 상기 방법은 적어도 하나의 입자상 물질을 기준으로 물 함량이 1 내지 30 중량% 범위인 상기 적어도 하나의 입자상 물질을, 외부 가열 요소들이 있는 로터리 킬른에 도입하는 단계 및 상기 적어도 하나의 입자상 물질을 가스의 흐름과 함께 로터리 킬른을 통해 이동시키는 단계를 포함하고, 결과적인 생성물의 잔류 수분은 50 중량ppm 내지 1.5 중량% 범위인, 입자상 물질로부터 물을 제거하는 방법.
Disclosed herein is a process for removing water from a particulate material selected from (oxy)hydroxides and carbonates containing at least one of nickel cobalt, and at least one metal other than nickel. The process includes the step of introducing at least one particulate material with a water content in the range of from 1 to 30% by weight, referring to said particulate material, into a rotary kiln with external heating elements and moving it through the rotary kiln together with a flow of a gas. The residual moisture of the resultant product is in the range of from 50 ppm to 1.5% by weight. |
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