통형상 가열부와 상기 통형상 가열부를 구비한 배기 가스 처리 장치
배기 가스 처리 장치(1)의 통형상 가열부(14)는 반응기(10) 안에 설치되어 있다. 통형상 가열부(14)는, 삽입 기부에 배기 가스 도입구(15)가 제공되고, 삽입단에 피가열 배기 가스 출구(16)가 제공되어 있다. 통형상 가열부(14)는 중공 실린더(20), 애자(30), 전열 히터(H), 및 홀딩 부재(40)로 구성되어 있다. 중공 실린더(20)는 금속제의 내통(21)과 외통(22)으로 구성된 이중 구조이다. 애자(30)는 복수로, 내통(21)을 둘러싸고 또한 서로 간격을 두어 내통(21)과 외통(22) 사이의 히터 설치 공...
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Format: | Patent |
Sprache: | kor |
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Zusammenfassung: | 배기 가스 처리 장치(1)의 통형상 가열부(14)는 반응기(10) 안에 설치되어 있다. 통형상 가열부(14)는, 삽입 기부에 배기 가스 도입구(15)가 제공되고, 삽입단에 피가열 배기 가스 출구(16)가 제공되어 있다. 통형상 가열부(14)는 중공 실린더(20), 애자(30), 전열 히터(H), 및 홀딩 부재(40)로 구성되어 있다. 중공 실린더(20)는 금속제의 내통(21)과 외통(22)으로 구성된 이중 구조이다. 애자(30)는 복수로, 내통(21)을 둘러싸고 또한 서로 간격을 두어 내통(21)과 외통(22) 사이의 히터 설치 공간(P)에 제공되어 있다. 전열 히터(H)는 애자(30)에 부착되어 있다. 홀딩 부재(40)는 내통(21) 또는 상기 외통(22) 중 어느 한쪽, 혹은 그 양쪽에 부착되고, 애자(30)를 히터 설치 공간(P)에 홀딩한다.
A cylindrical heating unit of an exhaust gas processing device is installed in a reactor. The cylindrical heating unit is provided with an exhaust gas introduction port provided in an insertion base part and a heated exhaust gas outlet provided at insertion end. The cylindrical heating unit includes a hollow cylinder, insulators, electric heaters, and holding members. The hollow cylinder has a double structure with an inner cylinder and an outer cylinder made of metal. A plurality of the insulators surround the inner cylinder and are provided at intervals from each other in a heater installation space between the inner cylinder and the outer cylinder. Electric heaters are mounted to the insulators. The holding members are attached to one of the inner cylinder and the outer cylinder or both and hold the insulators in the heater installation space. |
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