원자 층 증착을 위한 라인 충전 볼륨 컨테이너들을 갖는 전구체 디스펜싱 (dispensing) 시스템들

전구체 디스펜싱 (dispensing) 시스템은 소스, 앰플, 제 1 밸브, 제 2 밸브, 라인 충전 볼륨 컨테이너 및 제어기를 포함한다. 소스는 액체 전구체를 공급한다. 앰플은 소스로부터 액체 전구체를 수용한다. 제 1 밸브는 소스로부터 앰플로의 액체 전구체의 플로우를 조정한다. 제 2 밸브는 앰플로부터 기판 프로세싱 챔버의 샤워헤드로 전구체 증기의 플로우를 조정한다. 라인 충전 볼륨 컨테이너는 도관에 연결되고 그리고 전구체 증기의 충전물을 저장하고, 여기서 도관은 앰플로부터 제 2 밸브로 연장한다. 제어기는: 라인 충전 볼륨 컨테이너를 사전 충전하기 위해 (precharge) 제 1 밸브를 개방하고 제 2 밸브를 폐쇄하고; 그리고 도징 동작 동안, 라인 충전 볼륨 컨테이너로부터 그리고 기판 프로세싱 챔버 내로 다량의 (bulk amount of) 전구체 증기를 디스펜싱하기 위해 제 2 밸브를 개방한다. A precursor dispensing system includes a source, an ampoule, a first valve, a second valve, a line charge volume container and a controller. The source supplies a liquid precursor. The ampoule receives the liquid precursor from the source. The first valve adjusts flow of the liquid precursor from the source to the ampoule. The second valve adjusts flow of a precursor vapor from the ampoule to a showerhead of a substrate processing chamber. The line charge volume container is connected to a conduit and stores a charge of the precursor vapor, where the conduit extends from the ampoule to the second valve. The controller: opens the first valve and closes the second valve to precharge the line charge volume container; and during a dose operation, open the second valve to dispense a bulk amount of the precursor vapor from the line charge volume container and into the substrate processing chamber.