패턴 노광 장치 및 패턴 노광 방법

기판 상에 패턴을 묘화하는 묘화 유닛을 구비한 패턴 노광 장치는, 제1 빔을 출사하는 제1 광원 장치와, 제2 빔을 출사하는 제2 광원 장치와, 제1 광원 장치로부터의 제1 빔과 제2 광원 장치로부터의 제2 빔 각각이, 묘화 유닛에 입사되도록 합성하는 빔 합성부와, 기판 상에 투사되는 제1 빔에 의한 제1 스폿광의 형상과 제2 빔에 의한 제2 스폿광의 형상을 서로 다르게 하도록, 빔 합성부에 입사되는 제1 빔과 제2 빔 각각의 단면 형상을 서로 다르게 하는 빔 형상 변형부와, 기판 상에 묘화하는 패턴의 적어도 엣지부를, 제1 스폿광과 제2 스폿광 중 어느 일방, 또는 양방으로 묘화하도록 제어하는 제어 장치를 구비한다. This pattern exposure device is provided with a drawing unit for drawing a pattern onto a substrate, the pattern exposure device comprising: a first light source device for emitting a first beam; a second light source device for emitting a second beam; a beam combining unit for combining the first beam from the first light source device and the second beam from the second light source device so that each beam is incident on the drawing unit; a beam shape deformation unit for causing the first beam and the second beam incident on the beam combining unit to each have different cross-sectional shapes from one another so that a first spot light from the first beam and a second spot light from the second beam that are projected onto the substrate have different shapes from one another; and a control device for performing control so that at least an edge section of the pattern to be drawn onto the substrate is drawn with the first spot light and/or the second spot light.