감방사선성 수지 조성물, 패턴 형성 방법 및 오늄염 화합물

감도나 LWR 성능, CDU 성능을 충분한 레벨로 발휘 가능한 감방사선성 수지 조성물, 패턴 형성 방법 및 오늄염 화합물을 제공한다. 하기 식 (1)로 표시되는 오늄염 화합물과, 산 해리성 기를 갖는 구조 단위를 포함하는 수지와, 용제를 포함하는 감방사선성 수지 조성물. TIFFpct00035.tif34152 (상기 식 (1) 중, R1은 탄소수 1 내지 20의 1가의 탄화수소기이다. R2 및 R3은, 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 20의 1가의 탄화수소기이거나, 또는 R2와 R3이 서로 합쳐져 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	SAKANO NOZOMI, NEMOTO RYUICHI
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HETEROCYCLIC COMPOUNDS HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC CHEMISTRY ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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