GAS SUPPLY SYSTEM PLASMA PROCESSING APPARATUS AND GAS SUPPLY METHOD

In the present invention, a gas is appropriately supplied into a processing chamber in consideration of the influence of an additive gas to be mixed with a main gas. Provided is a gas supply system for supplying a gas into a processing chamber. A control unit included in the system executes: a control of calculating a flow rate of a main gas flowing through each of a plurality of gas supply flow paths; a control of acquiring a flow rate of an additive gas that flows through an additive gas flow path and is mixed with a main gas flowing each of a plurality of gas supply paths; a control of calculating a total flow rate of the flow rate of the main gas and the flow rate of the additive gas, in each of the plurality of gas supply flow paths; a control of calculating an internal pressure of each of the plurality of gas supply flow paths by using the total flow rate calculated in each of the plurality of gas supply flow paths, and relationships between a previously-acquired flow rate and a previously-acquired pressure of the main gas and between a previously-acquired flow rate and a previously-acquired pressure of the additive gas; a control of calculating a ratio of the internal pressures calculated in each of the plurality of gas supply flow paths; and a control of proportionally controlling openings of a plurality of flow rate control valves based on the ratio of the internal pressures. 본 발명은, 메인 가스에 혼합되는 첨가 가스의 영향을 고려하여, 적절하게 처리 챔버 내에 가스를 공급한다. 처리 챔버의 내부에 가스를 공급하는 가스 공급 시스템이며, 당해 시스템이 구비하는 제어부는, 복수의 가스 공급 유로 각각을 흐르는 메인 가스의 유량을 산출하는 제어와, 첨가 가스 유로를 흘러, 복수의 가스 공급 유로 각각을 흐르는 메인 가스에 혼합되는 첨가 가스의 유량을 취득하는 제어와, 메인 가스의 유량과 첨가 가스의 유량의 합계 유량을, 복수의 가스 공급 유로 각각에서 산출하는 제어와, 복수의 가스 공급 유로 각각에서 산출된 합계 유량과, 메인 가스 및 첨가 가스에서의 미리 취득된 유량과 압력의 관계를 사용하여, 복수의 가스 공급 유로 각각의 내부 압력을 산출하는 제어와, 복수의 가스 공급 유로 각각에서 산출된 내부 압력의 비를 산출하는 제어와, 내부 압력의 비에 기초하여, 복수의 유량 제어 밸브의 개방도를 비례 제어하는 제어를 실행한다.