COOKING APPLIANCE AND CONTROL METHOD FOR THE SAME

Provided are a cooking appliance and a control method thereof for providing a cleaning environment in which contaminants can be easily removed by heating the inside of a cooking chamber to a temperature that allows contaminants to become amorphous. The cooking appliance according to one embodiment comprises: a main body having a cooking chamber; a cooking chamber heating unit for providing heat to the cooking chamber; a water supply device disposed on the main body and configured to store water; a pump assembly configured to supply water from the water supply device to the cooking chamber; and a control unit for controlling the cooking chamber heating unit to heat the cooking chamber to a first target temperature during a predetermined heating time when a cleaning mode is started and controlling the pump assembly to supply a predetermined amount of water for steam generation to the cooking chamber before or during the heating time. 오염물의 비정질화가 가능한 온도로 조리실 내부를 가열함으로써 오염물의 용이 제거가 가능한 클리닝 환경을 제공하는 조리기기 및 그 제어방법을 제공한다. 일 실시예에 따른 조리기기는, 조리실을 갖는 본체; 상기 조리실에 열을 제공하는 조리실 가열부; 상기 본체에 배치되며, 저수가능하게 구성되는 물공급장치; 상기 물공급장치로부터 상기 조리실로 물을 공급하도록 구성되는 펌프어셈블리; 및 클리닝 모드가 시작되면, 미리 정해진 가열 시간 동안 상기 조리실을 제 1 목표 온도로 가열하도록 상기 조리실 가열부를 제어하고, 상기 가열 시간 이전 또는 상기 가열 시간 동안 스팀 생성을 위한 미리 정해진 양의 물을 상기 조리실로 공급하도록 상기 펌프어셈블리를 제어하는 제어부; 를 포함할 수 있다.