다운스트림 (downstream) 압력 센싱을 사용한 승화 (sublimation) 제어
가스 플로우를 제어하기 위한 시스템은 고체 전구체를 저장하기 위한 앰플을 포함한다. 히터는 앰플을 가열하고 그리고 고체 전구체를 가스상 (gaseous) 전구체로 승화시킨다 (sublimate). 질량 유량 제어기는 앰플로부터 기판 프로세싱 챔버로의 가스상 전구체의 플로우를 조절한다. 압력 센서 질량 유량 제어기로 입력된 가스상 전구체의 압력을 측정한다. 제어기는 압력 및 압력 설정점에 기초하여 폐 루프 (closed loop) 제어를 사용하여 전기 히터에 전력을 인가한다. A system to control gas flow inc...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 가스 플로우를 제어하기 위한 시스템은 고체 전구체를 저장하기 위한 앰플을 포함한다. 히터는 앰플을 가열하고 그리고 고체 전구체를 가스상 (gaseous) 전구체로 승화시킨다 (sublimate). 질량 유량 제어기는 앰플로부터 기판 프로세싱 챔버로의 가스상 전구체의 플로우를 조절한다. 압력 센서 질량 유량 제어기로 입력된 가스상 전구체의 압력을 측정한다. 제어기는 압력 및 압력 설정점에 기초하여 폐 루프 (closed loop) 제어를 사용하여 전기 히터에 전력을 인가한다.
A system to control gas flow includes an ampoule to store a solid precursor. A heater is to heat the ampoule and to sublimate the solid precursor into a gaseous precursor. A mass flow controller is to regulate a flow of gaseous precursor from the ampoule to a substrate processing chamber. A pressure sensor is to measure a pressure of the gaseous precursor input to the mass flow controller. A controller is to apply power to the electric heater using closed loop control based on the pressure and a pressure setpoint. |
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