추출 그리드

플라즈마로부터 이온 및/또는 전자를 추출하기 위한 장치는 그리드(1) 및 그리드(1)와 체결되는 원주 상의 그리드 홀더(2)를 갖는다. 본 발명에 따르면, 그리드(1)는 강망 그리드로서 구성된다. 본 발명은 또한 플라즈마 소스, 플라즈마 코팅 장치, 및 간섭층 또는 간섭층 시스템을 생성하기 위한 방법을 추가로 제공한다. The invention relates to a device for extracting ions and/or electrons from a plasma, comprising a grid (1) and a grid h...

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Hauptverfasser: REPPIN DANIEL, HAGEDORN HARRO, LIU SIMON, REUS HOLGER, MULLER DIRK
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:플라즈마로부터 이온 및/또는 전자를 추출하기 위한 장치는 그리드(1) 및 그리드(1)와 체결되는 원주 상의 그리드 홀더(2)를 갖는다. 본 발명에 따르면, 그리드(1)는 강망 그리드로서 구성된다. 본 발명은 또한 플라즈마 소스, 플라즈마 코팅 장치, 및 간섭층 또는 간섭층 시스템을 생성하기 위한 방법을 추가로 제공한다. The invention relates to a device for extracting ions and/or electrons from a plasma, comprising a grid (1) and a grid holder (2), on the circumference of which the grid (1) is fastened. According to the invention, the grid (1) is configured as an expanded metal grid. The invention also relates to a plasma source, a plasma coating device and a method for producing an interference layer or interference layer systems.