HYBRID PLASMA DEVICE FOR VACUUM PIPING WITH MULTIPLE MAGNETIC CORES

A hybrid plasma device for vacuum piping having multiple magnetic cores according to an embodiment is a plasma device disposed between vacuum process equipment for manufacturing a semiconductor or a display panel and a vacuum pump to process harmful gases and by-products, and generates plasma by using a magnetic core (ferrite core). Therefore, it is possible to eliminate a disadvantage that, since the conventional magnetic core type plasma device is a single winding source form, it is difficult to use the plasma device when a difference between an impedance upon ignition and an impedance upon maintenance is great. In addition, it is possible to eliminate a disadvantage that the ignition is easy but the sufficient plasma power is not transmitted such that treatment efficiency is low or treatment efficiency is high due to easy transmission of plasma power, but an initial ignition failure rate is high. By using the variable core plasma source method according to the embodiment, it is possible to provide the piping plasma treatment device in which treatment efficiency is high and there is no ignition failure rate by transmitting high-output power without depending on a vacuum piping environment. 실시예에 따른 다중 자기코어를 구비한 진공배관용 하이브리드 플라즈마 장치는 반도체 또는 디스플레이패널 제조용 진공 공정 설비와 진공펌프 중간에 배치되어, 유해가스와 부산물을 처리하는 플라즈마 장치로서, 자기코어(페라이트코어)를 이용하여 플라즈마를 생성시킨다. 이를 통해, 종래 자기코어형 플라즈마 장치는 단일 권선소스 형태이기 때문에 점화시의 임피던스와 유지시의 임피던스 차이가 큰 경우에는 사용이 어려운 단점을 개선한다. 아울러, 점화는 용이하게 되는데 충분한 플라즈마 전력이 전달되지 않아서 처리 효율이 낮거나, 플라즈마 전력 전달이 용이하게 되어 처리 효율은 높으나 초기 점화 실패율이 높은 단점을 개선한다. 실시예에 따른 가변 코어 플라즈마 소스 방식을 이용하면 진공배관의 환경에 의존적이지 않고 고출력 전력을 전달하여 처리효율이 높고 점화 실패율이 없는 배관 플라즈마 처리 장치를 제공할 수 있다.