와류 편광계
광학 계측 장치는, 와류 빔으로 지칭되는, 방위각 변화 편광 상태 및/또는 위상 상태를 갖는 광의 다수의 파장 빔을 사용한다. 계측 장치는 넓은 범위의 입사각에 걸쳐 테스트 중인 샘플에 와류 빔을 집속한다. 계측 장치는 샘플로부터 반사된 와류 빔의 이미지를 검출하고 복귀 광의 편광 상태를, 복수의 상이한 파장에서 추가로 측정될 수 있는, 입사각 및 방위각의 함수로서 측정할 수 있다. 와류 빔은 방위각 변화 편광 상태를 포함하며, 이에 의해 이동 광학 성분의 사용을 요구하지 않고 모든 원하는 편광 상태의 측정을 가능하게 한다. 다수의...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 광학 계측 장치는, 와류 빔으로 지칭되는, 방위각 변화 편광 상태 및/또는 위상 상태를 갖는 광의 다수의 파장 빔을 사용한다. 계측 장치는 넓은 범위의 입사각에 걸쳐 테스트 중인 샘플에 와류 빔을 집속한다. 계측 장치는 샘플로부터 반사된 와류 빔의 이미지를 검출하고 복귀 광의 편광 상태를, 복수의 상이한 파장에서 추가로 측정될 수 있는, 입사각 및 방위각의 함수로서 측정할 수 있다. 와류 빔은 방위각 변화 편광 상태를 포함하며, 이에 의해 이동 광학 성분의 사용을 요구하지 않고 모든 원하는 편광 상태의 측정을 가능하게 한다. 다수의 입사각 및 파장에 걸쳐 검출된 편광 상태 정보는 샘플의 하나 이상의 특성의 정확한 결정이 결정될 수 있는 데이터를 제공한다.
An optical metrology device uses a multi-wavelength beam of light that has azimuthally varying polarization states and/or phase states, referred to as a vortex beam. The metrology device focuses the vortex beam on a sample under test over a large range of angles of incidence. The metrology device may detect an image of the vortex beam reflected from the sample and measure the polarization state of the return light as function of the angle of incidence and the azimuth angle, which may be further measured at a plurality of different wavelengths. The vortex beam includes azimuthally varying polarization states, thereby enabling measurement of all desired polarization states without requiring the use of moving optical components. The polarization state information detected over multiple angles of incidence and wavelengths provides data with which an accurate determination of one or more characteristics of a sample may be determined. |
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