페디스털 근처의 플라즈마 챔버들 주변의 자성 재료 차폐부

플라즈마 챔버는 내부에 프로세싱 구역을 갖는 챔버 바디, 챔버 바디 상에 배치되는 라이너 - 라이너는 프로세싱 구역을 둘러쌈 -, 라이너 내에 배치된 기판 지지부, 라이너 주위에 배치된 복수의 자석들을 포함하는 자석 조립체, 및 라이너 주위에 배치된 자성 재료 차폐부를 포함하고, 자성 재료 차폐부는 기판 지지부 근처의 프로세싱 구역을 캡슐화한다. A plasma chamber includes a chamber body having a processing region therewithin, a liner disposed on the chamber body, the liner surrounding the processing region, a substrate support disposed within the liner, a magnet assembly comprising a plurality of magnets disposed around the liner, and a magnetic-material shield disposed around the liner, the magnetic-material shield encapsulating the processing region near the substrate support.