편광 선택 메트롤로지 시스템, 리소그래피 장치, 및 그 방법

검사 시스템, 리소그래피 장치, 및 방법이 제공된다. 검사 시스템은 조명 시스템, 광학 시스템, 셔터 시스템, 대물렌즈 시스템 및 검출기를 포함한다. 조명 시스템은 조명 빔을 생성하도록 구성된다. 광학 시스템은 조명 빔을 제 1 서브-빔 및 제 2 서브-빔으로 분할하도록 구성된다. 셔터 시스템은 제 1 서브-빔 및 제 2 서브-빔의 투과율을 독립적으로 제어하도록 구성된다. 대물렌즈 시스템은 광학 시스템으로부터 제 1 서브-빔 및 제 2 서브-빔을 수용하고, 제 1 서브-빔 및 제 2 서브-빔을 타겟 구조체를 갖는 기판으로 향하게 하도록 구성된다. 검출기는 타겟 구조체의 이미지 또는 회절된 이미지를 수용하도록 구성된다. An inspection system, a lithographic apparatus, and a method are provided. The inspection system includes an illumination system, an optical system, a shutter system, an objective system and a detector. The illumination system is configured to generate an illumination beam. The optical system is configured to split the illumination beam into a first sub-beam and a second sub-beam. The shutter system is configured to independently control a transmittance of the first sub-beam and the second subbeam. The objective system is configured to receive the first sub-beam and the second beam from the optical system and direct the first sub-beam and the second sub-beam towards a substrate having a target structure. The detector is configured to receive an image or a diffracted image of the target structure.