substrate cleaning method substrate cleaning apparatus and manufacturing method of semiconductor device using the same

According to the present invention, disclosed are a substrate cleaning method, a substrate cleaning device, and a manufacturing method of a semiconductor element using the same. The method comprises the following steps of: cleaning a substrate in a wet manner; drying the substrate in a dry manner by providing a supercritical fluid onto the substrate; and cleaning the substrate in the dry manner to remove defective particles generated on the substrate by the supercritical fluid. 본 발명은 기판 세정 방법, 기판 세정 장치 및 그를 이용한 반도체 소자의 제조방법을 개시한다. 그의 방법은, 기판을 습식으로 세정하는 단계와, 상기 기판 상에 초임계 유체를 제공하여 상기 기판을 건식으로 건조하는 단계와, 상기 기판을 건식으로 세정하여 상기 초임계 유체에 의해 상기 기판 상에 생성되는 결함 입자를 제거하는 단계를 포함한다.