MICROSCOPY FEEDBACK FOR IMPROVED MILLING ACCURACY

A method and apparatus for integrating image-based measurement into a milling workflow are disclosed. A first ion beam milling operation is performed on an edge at a distance from a final target position on a sample. A SEM image of the sample is used to determine a distance between the milled edge a...

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Hauptverfasser: MILLER THOMAS GARY, ROUTH BRIAN JR, BIEDRZYCKI MARK, ARJAVAC JASON
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method and apparatus for integrating image-based measurement into a milling workflow are disclosed. A first ion beam milling operation is performed on an edge at a distance from a final target position on a sample. A SEM image of the sample is used to determine a distance between the milled edge and a reference structure on the sample. Based on the determined distance, a second milling operation is performed by adjusting an ion beam to move the milled edge to the final target position. Expansion for iterative procedures is disclosed. Various geometric configurations and calibrations are disclosed. Manufacturing and analytical applications are disclosed in various fields including read-write head manufacturing and TEM sample preparation. Other combinations of imaging and milling tools can be used. 이미지 기반 계측을 밀링 워크플로우에 통합하기 위한 방법 및 장치가 개시된다. 샘플 상의 최종 목표 위치로부터 거리를 둔 에지에 제1 이온 빔 밀링 작업이 수행된다. 샘플의 SEM 이미지는 샘플에서 밀링된 에지와 기준 구조 사이의 거리를 결정하는 데 사용된다. 결정된 거리에 기초하여, 이온 빔이 조정되어 제2 밀링 작업을 수행해서 밀링된 에지를 최종 목표 위치로 이동시킨다. 반복 절차에 대한 확장이 개시된다. 다양한 기하학적 구성 및 보정이 개시된다. 제조 및 분석 적용은 읽기-쓰기 헤드 제조 및 TEM 샘플 준비를 포함한 다양한 분야에서 개시된다. 이미징 및 밀링 도구의 다른 조합을 사용할 수 있다.