기재를 열가소성 필름과 적층하기 위한 디바이스 및 방법

본 발명은 기재 (12) 를 열가소성 필름 (11) 과 적층하기 위한 장치 (1) 에 관한 것으로, 상기 장치 (1) 는 - 기재 (12) 를 열가소성 필름 (11) 과 적층하기 위한 적층 유닛 (2), - 상기 적층 유닛 (2) 에 대한 상기 열가소성 필름 (11) 의 공급 디바이스 (4) 를 포함하고, 열가소성 필름 (11) 의 공급 디바이스 (4) 는 상기 필름 (11) 의 제 1 측면 (16) 을 가열하기 위한 가열 디바이스들 (14) 및 상기 필름 (11) 의 제 2 측면 (17) 을 냉각하기 위한 냉각 디바이스들 (15)...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: ETHNER KAI, KINZELMANN HANS GEORG
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명은 기재 (12) 를 열가소성 필름 (11) 과 적층하기 위한 장치 (1) 에 관한 것으로, 상기 장치 (1) 는 - 기재 (12) 를 열가소성 필름 (11) 과 적층하기 위한 적층 유닛 (2), - 상기 적층 유닛 (2) 에 대한 상기 열가소성 필름 (11) 의 공급 디바이스 (4) 를 포함하고, 열가소성 필름 (11) 의 공급 디바이스 (4) 는 상기 필름 (11) 의 제 1 측면 (16) 을 가열하기 위한 가열 디바이스들 (14) 및 상기 필름 (11) 의 제 2 측면 (17) 을 냉각하기 위한 냉각 디바이스들 (15) 뿐만 아니라 다수의 제어가능 종동 롤러들 (10) 을 갖고, 이 롤러들을 경유하여 필름 (11) 이 가열 디바이스들 (14) 및 냉각 디바이스들 (15) 을 지나 안내되고, 필름 (11) 의 장력이 종동 롤러들 (10) 의 속도를 통해 조절될 수 있다. The invention relates to an apparatus (1) for laminating a substrate (12) with a thermoplastic film (11), the apparatus (1) comprising the following: -a laminating unit (2) for laminating the substrate (12) with the thermoplastic film (11), -a feed device (4) for the thermoplastic film (11) to the laminating unit (2), wherein the feed device (4) for the thermoplastic film (11) has devices (14) for heating a first side (16) of the film (11) and devices (15) for cooling a second side (17) of the film (11), as well as a number of controllably driven rollers (10) via which the film (11) is guided past the devices (14) for heating and the devices (15) for cooling, wherein a tension of the film (11) can be regulated via the speed of the driven rollers (10).