Substrate treating apparatus and process control method thereof

The present invention relates to a substrate processing device and a process management method of the substrate processing device. According to the disclosed process management technology of the substrate processing facility, by identifying the process status of each of multiple process chambers provided in the facility, substrates to be processed are input into each process chamber and stored in storage provided in a transfer chamber. Depending on the process progress of the process chamber, the substrate stored in the storage is transferred to the process chamber. 본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치의 공정 관리 방법으로서, 기판 처리 설비에 구비된 복수 공정 챔버 각각의 공정 현황을 파악하여 각각의 공정 챔버에 투입되어 처리 예정 기판을 트랜스퍼 챔버에 마련된 스토리지에 보관하고 해당 공정 챔버의 공정 진행 상황에 따라 상기 스토리지에 보관된 기판을 해당 공정 챔버로 이송하는 기판 처리 설비의 공정 관리 기술을 개시한다.