PLASMA SOURCE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS

Provided is a plasma source, which effectively suppresses the generation of particles. The plasma source comprises: a metal member formed with a support port, and forming a wall for defining an upstream flow of processing gas supplied from the supply port; a ceramic member formed with an outlet, and forming a wall for defining a downstream flow of the process gas discharged from the outlet; and a power supply unit for supplying power for plasma generation within a chamber. The chamber includes the metal member and the ceramic member, and discharges activation gas generated by forming the processing gas into plasma from the outlet to the outside of the chamber. [과제] 효과적으로 파티클의 발생을 억제한다. [해결 수단] 공급구가 형성되며, 상기 공급구로부터 공급하는 상기 처리 가스의 상류측의 흐름을 획정하는 벽을 구성하는 금속 부재와, 배출구가 형성되며, 상기 배출구로부터 배출하는 상기 처리 가스의 하류측의 흐름을 획정하는 벽을 구성하는 세라믹 부재와, 챔버 내에 플라즈마 생성용의 전력을 공급하는 전력 공급부를 구비하며, 상기 챔버는 상기 금속 부재와 상기 세라믹 부재로 구성되며, 상기 처리 가스를 플라즈마화하여 생성한 활성화 가스를 상기 배출구로부터 상기 챔버의 외부로 배출하도록 구성되는, 플라즈마원이 제공된다