지연 시간 측정 방법 및 시스템
회로 구조에서 라인의 신호 전파 지연 시간을 측정하는 방법으로서, 상기 방법은: 하전 입자 빔의 펄스(하전 입자 빔의 펄스의 펄스 반복 주파수는 변화함)에 의해 라인을 조사하는 단계를 포함한다. 상기 방법은, 각각의 펄스 반복 주파수에 대해, 각각의 펄스 반복 주파수에서 하전 입자 빔의 펄스에 의해 라인을 조사하는 것에 응답하는 2차 하전 입자 방출을 측정하는 단계, 및 펄스 반복 주파수의 변화에 응답하는 2차 하전 입자 방출에 기반하여 라인의 지연 시간을 도출하는 단계를 더 포함한다. A method of measuring a d...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 회로 구조에서 라인의 신호 전파 지연 시간을 측정하는 방법으로서, 상기 방법은: 하전 입자 빔의 펄스(하전 입자 빔의 펄스의 펄스 반복 주파수는 변화함)에 의해 라인을 조사하는 단계를 포함한다. 상기 방법은, 각각의 펄스 반복 주파수에 대해, 각각의 펄스 반복 주파수에서 하전 입자 빔의 펄스에 의해 라인을 조사하는 것에 응답하는 2차 하전 입자 방출을 측정하는 단계, 및 펄스 반복 주파수의 변화에 응답하는 2차 하전 입자 방출에 기반하여 라인의 지연 시간을 도출하는 단계를 더 포함한다.
A method of measuring a delay time of a propagation of a signal in a line in a circuit structure, the method comprises irradiating the line by pulses of a charged particle beam, wherein a pulse repetition frequency of the pulses of the charged particle beam is varied. The method further comprises measuring, for each of the pulse repetition frequencies, a secondary charged particle emission responsive to the irradiating the line by the pulses of the charged particle beam at the respective pulse repetition frequency, and deriving the delay time of the line based on the secondary charged particle emission responsive to the varying of the pulse repetition frequency. |
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